真空镀膜技术

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或昇華，並飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。按用途分：功能镀膜（导电膜，液晶薄膜，薄膜电容和切削刀具镀膜）、装饰镀膜（卫浴、五金、各类产品外壳）和包装镀膜（包装材料）
真空镀膜技术就是在真空环境下，通过化学、物理方式将反应物或者靶材沉积到基板上的薄膜气象沉积技术

磁控溅射

在溅射装置中加入磁场，就形成了磁控溅射。
磁控的含义在于利用磁场发出的磁力线在与电场正交的情况下，能改变雷子运动的方向。将其约束在靶表面附近或周围。对于平面靶来说，电子在磁场的约束下，作跨栏运动。对于圆柱靶来说，电子将围穗着柱靶作圆滚线运动。如此便大大增长了电子运动轨跏距离，从而提高了电子与气体
碰撞的机率，为此离化率大大提高。